反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统
  产品介绍:BM8-II反应离子刻蚀(RIE)/沉积(PEVCD)等离子处理系统、反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)系统用于反应离子刻蚀(RIE)及等离子体增强化学气相沉积 (PEVCD)的等离子处理系统。BM8-II是一款定义反应离子
深圳电磁振动试验台、高频率振荡试验设备
电磁振动台(试验机)广泛适用于国防、航空、航天、通讯、电子、汽车摩托车、家电等行业。该类型设备适用发现早期故障,模拟实际工况考核和结构强度试验。
AM600刀式研磨仪
AM600刀式研磨仪在食品行业中得到了广泛的应用,不仅对干性的、弹性的、纤维性的、软性的、中硬性的样品进行有效的研磨,而且对高水分、高油分和高脂分的“三高”样品进行快速、有效的的均质化处理来满足客户的需求。 AM600优秀的研磨效果主要依靠高转速和多样化
BioDot-CM5000可编程切条机
是一款适应性很强,自动化的切条机,可实现对试纸条的高精确性切割。配备不用角度的切刀,适应于不同材料切割。试纸条的切割宽度可由手持式控制器设定调节,程序可保存或调用,操作简单,满足层析试条研发与连续生产过程中的各种要求。
Ameritech 拍击式均质器
产品说明: 型号: AP-BM-400B电机功率: 165W有效容量: 30-400ml定时范围: 10秒至常开连续运转,可调可变速度: 6次/秒-9次/秒外观尺寸: 216*410*248mm主机质量: 18kg电源: 220V/50HZ实验室环境温度:2-30℃
台式隐形眼镜等离子清洗系统,迷你型台式等离子系统,台式等离子清洗系统
等离子体广泛的应用在隐形眼镜的生产中。等离子用来在镀膜前活化镜片材料,也可用来侵蚀表面,暴露出下面的表层。在这两个应用中等离子都可以替代难用的、耗时的、昂贵的湿化学方法。 用于制造隐形眼镜的玻璃带有铸型时产生的聚合物污染层和/或脱模剂。
简装平行化学合成仪
主要使用于组合化学的合成,高速地震荡,有综合控制的加热单机版本嵌板的低噪音旋涡和显示温度.(-78℃- +150℃可升级到250℃)温度可精确度到0.1℃,8,24,48,96个回流装置 ,反应器为 20-1毫升 8-96 个特殊的玻璃反应器阻塞,完成覆盖板子结构的顶端板,气体进入板子螺旋和逆流冷却室,回流瓶适合8-96个反应仪器回流气流回流控制调整器。